產(chǎn)品機(jī)型：37片機(jī)

GAN MOCVD機(jī) 外延片爐    BDS反應(yīng)腔體

通過中心輻射流動(dòng)與垂直噴淋流動(dòng)相結(jié)合吸收行星反應(yīng)腔體流層的優(yōu)點(diǎn)，而無需行星反應(yīng)腔體所需的復(fù)雜運(yùn)動(dòng)

優(yōu)勢(shì)：避免復(fù)雜運(yùn)動(dòng)，設(shè)計(jì)上可擴(kuò)展

GAN MOCVD機(jī) 外延片爐    氣流模式

準(zhǔn)確實(shí)現(xiàn)反應(yīng)氣體的瞬時(shí)切換在保持腔體流場(chǎng)不變的情況下，可實(shí)現(xiàn)反應(yīng)氣源從連續(xù)到脈沖注入的切換

優(yōu)勢(shì)：氣流的流動(dòng)方式、反應(yīng)氣體濃度、組分及參雜等級(jí)一步柔性可控；滿足用戶不同膜層的界面的要求，納米級(jí)薄膜厚度精確可控

GAN MOCVD機(jī) 外延片爐   加熱爐體

采用多區(qū)電阻片紅外輻射加熱區(qū)域可以獨(dú)立控制，加熱片形狀經(jīng)過獨(dú)特設(shè)計(jì)，

優(yōu)勢(shì)：實(shí)現(xiàn)大面積溫度可控，獲得更廣范圍的加熱溫區(qū)

GAN MOCVD機(jī) 外延片爐   控制系統(tǒng)

采用網(wǎng)絡(luò)架構(gòu)，實(shí)現(xiàn)傳感器與執(zhí)行器實(shí)時(shí)控制：根據(jù)不同外延工藝對(duì)實(shí)時(shí)性的敏感性進(jìn)行針對(duì)性設(shè)計(jì)；提供工藝工程師熟悉的控制界面，指示清晰，操作簡便

優(yōu)勢(shì)：保證生產(chǎn)的重復(fù)性與穩(wěn)定性，方便用戶熟悉使用