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韓國(guó)研究團(tuán)隊(duì)開(kāi)發(fā)Micro LED像素制造新技術(shù)

字體變大  字體變小 發(fā)布日期:2023-03-09  來(lái)源:LEDinside  瀏覽次數(shù):1342
核心提示:3月8日消息,韓國(guó)科學(xué)技術(shù)院(KAIST)物理系 Yong-Hoon Cho 教授的研究團(tuán)隊(duì),開(kāi)發(fā)了一項(xiàng)制造超高分辨率LED顯示器的核心技術(shù),通過(guò)聚焦離子束(focused ion beams)實(shí)現(xiàn)了0.5微米的LED像素,小于頭發(fā)平均厚度的 1/100。
 

3月8日消息,韓國(guó)科學(xué)技術(shù)院(KAIST)物理系 Yong-Hoon Cho 教授的研究團(tuán)隊(duì),開(kāi)發(fā)了一項(xiàng)制造超高分辨率LED顯示器的核心技術(shù),通過(guò)聚焦離子束(focused ion beams)實(shí)現(xiàn)了0.5微米的LED像素,小于頭發(fā)平均厚度的 1/100。


通過(guò) He 聚焦離子束 (FIB) 照射 LED 器件制造超高密度亞微米像素(圖片來(lái)源:KAIST)


據(jù)介紹,超高分辨率LED顯示屏的像素化,通常依賴(lài)于物理切割像素周?chē)鷧^(qū)域的蝕刻方法,但是隨著LED像素變小,其周?chē)霈F(xiàn)各種缺陷,如電流泄漏增加和發(fā)光效率降低。因此,傳統(tǒng)物理切割還需要搭配各種額外的復(fù)雜工藝,例如像素圖案化工藝和預(yù)防漏電的后期處理。


通過(guò) He 聚焦離子束 (FIB) 照射 LED 器件制造超高密度亞微米像素(圖片來(lái)源:KAIST)


而Yong-Hoon Cho 教授的研究團(tuán)隊(duì)開(kāi)發(fā)了一種技術(shù),通過(guò)使用聚焦離子束,即可制成微米級(jí)LED像素,且無(wú)需進(jìn)行復(fù)雜的前期和后期處理。這種方法的優(yōu)點(diǎn)是,通過(guò)控制聚焦離子束的強(qiáng)度,能夠自由設(shè)置發(fā)光像素的形狀,且不會(huì)在材料表面造成任何結(jié)構(gòu)變形。


上:由聚焦離子束實(shí)現(xiàn)的不同大小的矩形像素(表面結(jié)構(gòu)圖片和發(fā)光圖片)。下:像素陣列的發(fā)光圖片,尺寸從 20 µm x 20 µm 到 0.5 µm x 0.5 µm,表面平整度保持不變。


據(jù)悉,聚焦離子束技術(shù)已廣泛應(yīng)用于材料工程和生物學(xué)等領(lǐng)域的超高倍率成像和納米結(jié)構(gòu)制造中。


然而,當(dāng)將聚焦離子束用于LED等發(fā)光體時(shí),被光束擊中的發(fā)光體部分以及周?chē)鷧^(qū)域的光發(fā)射將迅速減少,這阻礙了納米級(jí)發(fā)光結(jié)構(gòu)的制造。KAIST研究團(tuán)隊(duì)就該問(wèn)題開(kāi)展了研究,解決了聚焦離子束在超精細(xì)LED像素化制造中的應(yīng)用難題。


Yong-Hoon Cho 教授表示,超高分辨率顯示器是開(kāi)發(fā)虛擬現(xiàn)實(shí)(VR)、增強(qiáng)現(xiàn)實(shí)(AR)和智能手表等下一代電子產(chǎn)品的重要組成部分。本次團(tuán)隊(duì)新開(kāi)發(fā)的技術(shù),使用聚焦離子束創(chuàng)建了亞微米級(jí)LED像素,且無(wú)需復(fù)雜的過(guò)程,這項(xiàng)基礎(chǔ)技術(shù)可應(yīng)用于下一代超高分辨率顯示器和納米光電器件中。

 

 
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